Koło Naukowe Wydziału Chemicznego "Allin"

Serdecznie zapraszamy na XX edycję „Wrocławskiego Studenckiego Sympozjum Chemicznego” organizowanego przez Koło Naukowe Wydziału Chemicznego „Allin” Politechniki Wrocławskiej, które odbędzie się 22-23.04.2023!

Konferencja odbędzie się w formie stacjonarnej na terenie Wydziału Chemicznego Politechniki Wrocławskiej.
Formularz zapisowy do udziału w formie czynnej i biernej zostanie udostępniony 27 lutego!

W formularzu wymagane będzie podanie informacji na temat wystąpienia – zachęcamy, aby już teraz zacząć zastanawiać się nad jego formą, tytułem i abstraktem.
Przygotowanych jest 30 miejsc na postery i 25 miejsc na komunikaty ustne
w formie 12-minutowych prezentacji.

Gościem Specjalnym XX edycji WSSC będzie prof. dr hab. inż. Paweł Pohl, kierownik Katedry Chemii Analitycznej i Metalurgii Chemicznej Wydziału Chemicznego Politechniki Wrocławskiej. Profesor wygłosi wykład pt. “Zimna plazma atmosferyczna – nowa nadzieja dla techniki i medycyny”.

Podjęta na początku roku współpraca z Zespołem Molekularnych
i Makromolekularnych Materiałów Elektronicznych (MMEM) zaowocowała realizacją przez studentów zrzeszonych w KNWCh „Allin” projektu badawczego dotyczącego nowoczesnych metod wytwarzania powłok polimerowych.

Celem eksperymentów jest dobór parametrów działania plazmy niskotemperaturowej (mocy plazmy, czasu jej działania, gazu nośnego
i reaktywnego) tak, aby umożliwić wytwarzanie powłok poli(fluorku winylidenu) (PVDF) o grubości w zakresie 10-200 nm na podłożach poli(tereftalanu etylenowego) (PET) oraz poli(naftalanu etylenowego) (PEN). Powłoki PVDF będą nakładane tzw. metodą mokrą, tj. przez nanoszenie PVDF z jego roztworów w dimetyloformamidzie (DMF)
lub dimetyloacetamidzie (DMA). Powłoki będą nanoszone za pomocą oryginalnej metody opracowanej w zespole MMEM polegającej
na przemieszczaniu cieczy po powierzchni podłoża za pomocą wiązki lasera. Wybrany sposób wytwarzania powłok oznacza, że modyfikacja plazmowa PET i PEN powinna w rezultacie zapewnić dobre zwilżanie
tych polimerów w.w. roztworami PVDF. Na poziomie eksperymentalnym oznacza to, że konieczne jest prowadzenie modyfikacji plazmowej tak,
aby obniżyć swobodną energię powierzchni PET i PEN wynoszącą powyżej 35 mN/m2 do poziomu PVDF (ok. 23 mN/m2). Efekt modyfikacji PET i PEN powinien być możliwie trwały w czasie – stanowi to jedno z wyzwań w projekcie.
Z punktu widzenia realizacji projektu kluczowe jest precyzyjne oznaczanie swobodnej energii powierzchni. Komercyjne układy do wyznaczania swobodnej energii przez pomiar kąta lub profilu zwilżania są technicznie nieskomplikowane, lecz drogie. Dlatego w projekcie prócz eksperymentów fizykochemicznych, zaplanowano także budowę autorskiego, innowacyjnego układu do pomiaru profili zwilżania.
Co ważne, zaprojektowane w zespole MMEM urządzenie ma nie tylko dorównywać dokładnością pomiaru urządzeniom komercyjnym, ale pod pewnymi względami je przewyższać. Jedną z cech budowanego aparatu jest możliwość pomiaru dynamicznych profili zwilżania przy jednoczesnym zapewnieniu „dostępu” do powierzchni pod zwilżającą kroplą dla innych metod badawczych: np. dla pomiarów rentgenograficznych. Dlatego projekt urządzenia przewiduje możliwość jego instalacji na eksperymentalnych liniach synchrotronowych.

Wytwarzanie nanometrycznych powłok PVDF umożliwi otrzymywanie nowoczesnych, elastycznych mikroukładów sensorowych
i mikrogeneratorów energii elektrycznej. Dlatego realizacja projektu
ma istotne znaczenie dla rozwoju nowoczesnych źródeł energii i elastycznej elektroniki osobistej. Studentom koła „Allin” realizacja projektu stwarza możliwość zdobycia praktycznego doświadczenia w pracy z metodami modyfikacji plazmowej, pomiarami optycznymi oraz nowych kompetencji w zakresie nanoszenia powłok polimerowych.

Projekt jest finansowany dzięki dotacji przyznanej przez Samorząd Studencki Politechniki Wrocławskiej na dofinansowanie studenckiego projektu badawczego oraz dzięki funduszom projektu pt. „Otrzymywanie filmów elektroaktywnych kompozytów polimerowych metodą wspomaganej laserowo krystalizacji strefowej” (UMO-2017/25/B/ST5/02869).

W dniach 21-22 maja 2022 roku w sali 220 budynku A-3 Politechniki Wrocławskiej odbyło się Wrocławskie Studenckie Sympozjum Chemiczne organizowane przez członków Koła Naukowego Wydziału Chemicznego “Allin”. Wydarzenie to cieszy się od lat dużą popularnością wśród studentów i doktorantów z całej Polski. W XIX edycji konferencji wzięło udział trzydziestu pięciu uczestników z czterech miast. Swoje prezentacje z badań własnych i tematyki popularnonaukowej wygłosili prelegenci z sześciu placówek naukowych: Uniwersytetu Jagiellońskiego w Krakowie, Uniwersytetu Gdańskiego, Politechniki Rzeszowskiej, Uniwersytetu Wrocławskiego oraz oczywiście Politechniki Wrocławskiej, a także Instytutu Niskich Temperatur i Badań Strukturalnych Polskiej Akademii Nauk we Wrocławiu. Wśród uczestników Sympozjum znaleźli się nie tylko studenci wydziałów chemicznych, ale także chociażby Wydziału Budowy Maszyn i Lotnictwa (Politechnika Rzeszowska). W Sympozjum uczestniczyli m.in. studenci z dziewięciu kół naukowych, w tym z czterech kół działających przy Wydziale Chemicznym Politechniki Wrocławskiej (KNWCh “Allin”, PhoBiA, KNPC “Consilium” oraz KNS “Gambrinus”). 

Podczas wydarzenia uczestniczyliśmy w ośmiu sesjach prezentacji (w tym jednej w języku angielskim) i wysłuchaliśmy trzydziestu pięciu prelekcji uczestników z różnych dziedzin chemii, głównie chemii organicznej oraz inżynierii chemicznej i materiałowej, ale także chemii fizycznej, biochemii
i chemii medycznej, co stanowiło doskonałą okazję do poszerzenia swoich horyzontów i ożywionych dyskusji interdyscyplinarnych. Ponadto pierwszego dnia Sympozjum mieliśmy okazję wysłuchać wykładu Gościa Specjalnego – prof. dr hab. inż. Jarosława Myśliwca –  pt. “Układy ciekłokrystaliczne jako źródła elektrycznie przestrajanego białego światła”. W trakcie konferencji swoją obecnością zaszczycili uczestników również Prodziekan ds. Studenckich prof. dr hab. inż. Joanna Cabaj, Prodziekan ds. Dydaktyki prof. dr hab. inż. Piotr Rutkowski, który wygłosił krótkie przemówienie podczas uroczystego otwarcia pierwszego dnia Sympozjum oraz Patron Honorowy XIX Wrocławskiego Studenckiego Sympozjum Chemicznego Dziekan Wydziału Chemicznego prof. dr hab. Piotr Młynarz, który oficjalnie otworzył drugi dzień Sympozjum. 

Sponsorem XIX Wrocławskiego Studenckiego Sympozjum Chemicznego był Wrocławski Park Technologiczny S.A.

Już teraz serdecznie zapraszamy na jubileuszową XX edycję Wrocławskiego Studenckiego Sympozjum Chemicznego oraz zapraszamy do obejrzenia zdjęć z wydarzenia!

Serdecznie zapraszamy na XIX edycję „Wrocławskiego Studenckiego Sympozjum Chemicznego” organizowanego przez Koło Naukowe
Wydziału Chemicznego „Allin” Politechniki Wrocławskiej,
które odbędzie się 21-22.05.2022!

Konferencja odbędzie się w formie stacjonarnej w sali 220 w budynku A-3 Wydziału Chemicznego Politechniki Wrocławskiej.

Po dwóch latach konferencji prowadzonych w formie online, będziemy mieli okazję spotkać się na żywo, aby wymienić się wiedzą, poglądami
i doświadczeniami. Uczestnicy z całej Polski będą mieli możliwość zaprezentowania swoich osiągnięć naukowych lub podzielić się wiedzą
o tematyce popularnonaukowej.

Aby móc wziąć udział w wydarzeniu (zarówno w formie czynnej
jak i biernej), należy dokonać zapisu poprzez wypełnienie formularza dostępnego pod linkiem:

Formularz rejestracyjny

Tworząc abstrakt prosimy o stosowanie się do wzoru, który można pobrać, klikając w poniższą grafikę:

Uprzejmie prosimy o przesyłanie abstraktów zgodnych ze wzorem,
w razie wystąpienia jakichkolwiek niezgodności, abstrakty będą odsyłane do poprawy, szczególnie prosimy o zwrócenie uwagi
na bibliografię, zachowanie odpowiednich odstępów między wierszami
oraz podkreślanie imienia i nazwiska osoby wygłaszającej referat
(w przypadku tylko jednego autora również).